SK하이닉스, 메모리 업계 최초 '하이 NA EUV' 장비 도입

[한국금융신문 곽호룡 기자] SK하이닉스가 메모리 업계 최초로 양산용 'High(하이) NA EUV' 장비를 경기 이천 M16팹에 반입하고 기념 행사를 진행했다고 3일 밝혔다.

이날 행사에는 ASML코리아 김병찬 사장, SK하이닉스 차선용 부사장(미래기술연구원장, CTO), 이병기 부사장(제조기술 담당) 등이 참석했다.

하이 NA EUV는 기존 EUV 보다 더 큰 NA(개구수)를 적용해 해상도를 크게 향상시킨 차세대 노광 장비로, 현존 가장 미세한 회로 패턴 구현이 가능해 선폭 축소 및 집적도 향상에 핵심 역할을 한다.
SK하이닉스는 "치열한 글로벌 반도체 경쟁 환경에서 고객 니즈에 부응하는 첨단 제품을 신속하게 개발하고 공급할 수 있는 기반을 마련하게 됐다"며, "파트너사와의 긴밀한 협력을 통해 글로벌 반도체 공급망의 신뢰성과 안정성을 한층 더 강화해 나가겠다"고 밝혔다.

이번에 도입한 장비는 네덜란드 ASML의 '트윈스캔 EXE:5200B'이다. 기존 EUV(NA 0.33) 대비 40% 향상된 광학 기술(NA 0.55)로 1.7배 더 정밀한 회로 형성이 가능하고 2.9배 높은 집적도를 구현할 수 있다.

차 CTO는 “이번 장비 도입으로 회사가 추진중인 미래 기술 비전을 실현하기 위한 핵심 인프라를 확보하게 됐다”며 “급성장하는 AI와 차세대 컴퓨팅 시장이 요구하는 최첨단 메모리를 가장 앞선 기술로 개발해 AI 메모리 시장을 선도하겠다”고 했다.

곽호룡 한국금융신문 기자 horr@fntimes.com