이재용 부회장, 온양 이어 ‘초격차' 핵심 EUV D램 현장경영 잇는다

[한국금융신문 곽호룡 기자] 이재용닫기이재용기사 모아보기 삼성전자 부회장이 '반도체 초격차'를 지키기 위한 현장경영 행보를 이어가고 있다.

8일 재계에 따르면 이 부회장은 조만간 평택 메모리반도체 사업장을 방문할 것으로 알려졌다. 이후 기흥 파운드리 생산라인, 삼성디스플레이 탕정사업장 등을 방문할 예정이다. 지난 6일 온양·천안 사업장 방문부터 시작된 현장경영의 연장이다.

특히 이 부회장의 평택 방문 계획은 가까운 미래 삼성전자의 핵심 먹거리가 될 생산현장을 점검하는 차원이라는 해석이 나온다.
삼성전자는 내년 상반기 가동을 목표로 평택 2라인 신설 작업이 한창이다. 업계에 따르면 삼성전자는 평택 2라인에 EUV 장비를 활용한 차세대 D램 생산을 검토하고 있다.

EUV는 빛을 이용해 반도체를 회로에 그리는 과정에서 쓰이는 노광장비다. 현재 삼성전자가 시스템반도체에 활용하고 있는 EUV를 D램 공정에도 적용해 '반도체 초격차'를 유지한다는 계획이다.

이 부회장은 지난 4월 '2030 반도체 비전 선포식'에서 문재인 대통령에게 화성에 만든 EUV라인을 소개하며 "이거 짓는 돈이 인천공항 3개 짓는 비용"이라고 농담하며 자부심을 드러내기도 했다.

다만 EUV공정에는 일본의 수출규제 품목 가운데 하나인 포토레지스트가 핵심 소재로 꼽힌다. 이는 신에츠화학공업, JSR 등 일본기업들이 공급하고 있다. 지난달 일본의 수출규제 조치가 한국 반도체 기업의 미래를 겨냥했다는 해석이 나오는 이유도 이 때문이다.

한편 삼성전자는 국내외 여러 업체의 포토레지스트 품질 테스트 작업에 착수한 것으로 알려졌다.

곽호룡 기자 horr@fntimes.com