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삼성전자, 2018년 시설투자 29조 전년비 32%↓..."2019년도 줄어든다"

곽호룡 기자

horr@

기사입력 : 2019-01-31 11:36 최종수정 : 2019-01-31 11:42

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삼성전자 평택 반도체 공장 1라인.

삼성전자 평택 반도체 공장 1라인.

[한국금융신문 곽호룡 기자] 삼성전자는 "2018년 시설투자는 약 29조4000억원이 집행됐다"고 31일 밝혔다. 이는 2017년 43조4000억원에 비하면 32% 가량 줄어든 규모다.

특히 반도체에 전체 80%가 넘는 23조7000억원을 투입했다.

메모리 반도체는 평택 반도체 라인 증설로 2017년에 비해 투자 규모가 증가했다. 반면 파운드리는 2017년 10나노 공정 신규증설 완료로 투자 규모가 줄었다.

삼성전자 관계자는 컨퍼런스콜을 통해 "대외적 불확실성을 고려해 2019년 반도체 추가 증설 계획은 없다"면서 "신규 팹 건설 투자 위주로 계획하고 있다"고 밝혔다. 이어 "2019년 설비투자 비중은 2018년보다 감소할 것"이라고 덧붙였다.

곽호룡 기자 horr@fntimes.com

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