이날 삼성전자에 따르면, 2017년 시설투자는 43조 4000억원이 집행됐다. 사업별로는 반도체 27조 3000억원, 디스플레이 13조 5000억원 수준이다. 2017년 시설 투자 규모는 전년 대비 대폭 증가했다.
삼성전자는 “늘어나는 V낸드 수요에 맞춰 평택 반도체 라인을 증설했고, 파운드리 10나노 공정 캐파 확대에 투자했다”며 “플렉서블 OLED 패널 고객 수요 증가 대응을 위한 OLED 캐파 확대에 적극 투자해 지난해 전체 투자 규모는 2016년 대비 대폭 증가했다”고 밝혔다.
김승한 기자 shkim@fntimes.com