에스티에스 20억 투자유치

반도체장비 제조업체인 에스티에스(대표 서진천)가 벤처캐피털들로부터 20억원의 자금을 유치했다.

2일 금융업계에 따르면 에스티에스가 이번에 펀딩받은 자금은 기은캐피탈 8억원, 산은캐피탈 6억원, 센츄리온기술투자 3억원, 마일스톤창투 3억원씩 총 20억원이다. 투자유치조건은 주당 액면가 5000원의 8배인 4만원이다.

반도체장비를 국산화하기 위해 97년 설립된 에스티에스는 반도체 고진공조절장치인 진공밸브(Vacuum Valve) 및 반도체 통합환경관리시스템 개발을 완료해 국산화에 성공함과 아울러 양산에 매진하고 있는 벤처기업이다.
특히 스위스 VAT사가 독점적으로 전세계에 판매했던 고진공밸브를 에스티에스가 세계에서 두번째로 개발함에 따라 삼성전자 현대전자 등에 공급하고 있다.

또한 반도체환경관리시스템(STMS)은 반도체 제조공정에서 각 공정 장비들의 작동상태와 이상 유무를 모니터링하는 중앙관제시스템으로 그동안 전량 수입에 의존했으나 에스티에스가 국산화에 성공해 삼성전자에 납품되고 있다.

에스티에스는 반도체웨이퍼, LCD, PDP 등의 전공정 작업 중 화학약품을 이용하던 크리닝(Wet Cleaning)방식의 세정처리 공정에 드라이크리닝(Dry Cleaning)방식을 적용함으로써 경제성을 높이고 있다.



구영우 기자 ywku@fntimes.com