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[컨콜] 삼성전자 “하반기 EUV 적용 14나노 D램 양산 계획”

정은경 기자

ek7869@

기사입력 : 2021-04-29 11:31

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[컨콜] 삼성전자 “하반기 EUV 적용 14나노 D램 양산 계획”
[한국금융신문=정은경 기자] 삼성전자는 29일 열린 1분기 실적발표 컨퍼런스콜에서 “현재 D램을 15나노 공정으로 생산 중인데, 하반기에 EUV(극자외선)를 적용한 14나노 D램 양산을 계획하고 있다”며 “이미 주요 칩셋업체들로부터 성능과 안정성을 인정받았다”고 밝혔다.

이어 “7세대 V내드 역시 비슷한 시기에 양산 계획이 있다”며 “8세대 V낸드의 경우 연구소에 선 이미 시제품을 확보했고, 내년 하반기까진 양산이 차질없이 진행되는 걸 목표로 하고 있다”고 말했다.

정은경 기자 ek7869@fntimes.com

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